CeO2和Co3O4助剂对镍基催化剂上CH4积碳和CO2消碳性能的影响

被引:15
作者
杨咏来
李文钊
徐恒泳
机构
[1] 中国科学院大连化学物理研究所,中国科学院大连化学物理研究所,中国科学院大连化学物理研究所辽宁大连,辽宁大连,辽宁大连
关键词
金属-半导体相互作用; 镍基催化剂; 氧化铈; 氧化钴; 积碳; 消碳;
D O I
暂无
中图分类号
O643.3 [催化];
学科分类号
081705 ;
摘要
采用脉冲微反技术研究了添加CeO2 和Co3 O4助剂对镍基催化剂上CH4积碳和CO2 消碳性能的影响 ,并用BET ,TGA ,XPS及CO2 TPSR等技术对催化剂进行了表征 .结果表明 ,添加CeO2 可以提高活性原子Ni0 中d电子的密度 ;Ni0 原子中d电子密度的增加在一定程度上抑制了CH4分子中C H键σ电子向d轨道的迁移 ,降低了CH4裂解积碳性能 ;同时加强了Ni0原子d轨道向CO2 空反键π轨道的电子迁移 ,促进了CO2 分子的活化 ,提高了CO2 的消碳活性 .助剂Co3 O4的添加则促进CH4的裂解积碳 ,抑制了CO2 的消碳 .分析表明 ,活性金属与半导体助剂之间存在的金属 半导体相互作用是影响这种机制的主要因素 .
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