XPS研究等离子体处理的聚苯乙烯表面结构

被引：4

作者：

张瑞峰

于亚莉

刘学恕

姚耀广

机构：

[1] 中国科学院长春应用化学研究所

[2] 中国科学院广州化学研究所

[3] 中国科学院广州化学研究所长春

[4] 长春

[5] 广州

来源：

高分子学报 | 1991年 / 03期

关键词：

聚苯乙烯; 等离子体处理XPS研究;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

采用不同功率（10、20、60、100、150W）、时间（0.5、1、3、6、15和30分）,在Ar、N2、O2、H2和空气中,对聚苯乙烯（PS）片基进行了等离子体处理。通过XPS技术、谱图的拟合、差谱分析和Ar+小功率剖面处理,研究了PS表面组成与结构变化,指出处理的聚苯乙烯表面有C—O、C—NH2、C=O、COOH和基团嵌入,因而改变了材料特性。

引用

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