纳米二氧化硅/聚酰亚胺耐电晕薄膜的研究

被引：14

作者：

张营堂

梁冰

刘立柱

雷清泉

机构：

[1] 哈尔滨理工大学材料科学与工程学院

[2] 哈尔滨理工大学电气与电子工程学院黑龙江哈尔滨

[3] 黑龙江哈尔滨

来源：

关键词：

超声机械共混; 纳米二氧化硅; 聚酰亚胺薄膜; 耐电晕性;

D O I：

10.16790/j.cnki.1009-9239.im.2003.06.002

中图分类号：

TQ320.721 [];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

通过超声机械混合方法制备纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合耐电晕薄膜,并对其耐电晕性进行测量。用红外光谱(IR)和原子力显微镜(AFM)观察无机纳米粒子的分散情况及其电晕前后变化。结果表明:纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合薄膜耐电晕性比普通的聚酰亚胺薄膜高。

引用

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