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敦煌石窟彩塑漫游技术
被引:11
作者
:
石宜辉
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浙江大学CAD&CG国家重点实验室
石宜辉
鲁东明
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机构:
浙江大学CAD&CG国家重点实验室
鲁东明
潘云鹤
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机构:
浙江大学CAD&CG国家重点实验室
潘云鹤
机构
:
[1]
浙江大学CAD&CG国家重点实验室
[2]
浙江大学计算机系
来源
:
计算机应用研究
|
2002年
/ 06期
关键词
:
3D建模;
IBR;
三维扫描;
Morphing;
阴影;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TP391.4 [模式识别与装置];
学科分类号
:
0811 ;
081101 ;
081104 ;
1405 ;
摘要
:
以敦煌莫高窟洞窟漫游系统为应用背景 ,介绍了系统中彩塑漫游部分的相关技术、操作方法 ,以及实验结果。根据敦煌彩塑的自身形态、位置、尺寸等特征 ,以及当前计算机的运算能力 ,我们把彩塑漫游的方法归结为 3D建模和IBR漫游两大类 ;利用三维扫描和数字摄影获得的彩塑信息 ,经过模型简化、纹理生成、计算IBR中间图像等处理步骤 ,得到漫游时使用的模型数据 ;将模型数据直接应用在漫游系统中 ,并增强了阴影等真实感效果 ,获得最终的漫游结果。
引用
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页码:68 / 71+95 +95
页数:5
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