辐射源定标红外焦平面阵列非均匀性校正算法研究

被引：13

作者：

殷世民

相里斌

周锦松

黄旻

机构：

[1] 中国科学院西安光学精密机械研究所

来源：

光子学报 | 2008年 / 05期

关键词：

红外焦平面阵列; 非均匀性校正; 辐射源定标; 函数插值; 函数拟合;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN215 [红外探测、红外探测器];

学科分类号：

0803 ; 080401 ; 080901 ;

摘要：

针对红外成像系统工程应用的实际要求,对辐射源定标红外焦平面阵列非均匀性校正的数学方法进行了研究,揭示了该实际工程问题属于函数插值或函数拟合的数学原理,并据此导出了三次样条插值、B样条最小二乘拟合及多项式最小二乘拟合等非均匀性校正算法.实验表明,该算法能有效适应红外焦平面阵列响应特性的大动态范围和非线性,校正准确度高,计算速度快.

引用

页码：992 / 995

页数：4

共 4 条

[1] 光谱成像仪CCD焦平面组件非均匀性校正技术研究 [J].