准分子激光扫描淀积PZT/YBCO结构铁电薄膜

被引：2

作者：

赵建洪

刘建设

黄歆

李兴教

安承武

陆冬生

李再光

机构：

[1] 华中理工大学固体电子学系

[2] 华中理工大学激光技术国家实验室

来源：

中国激光 | 1997年 / 04期

关键词：

PZT／YBCO／LaAlO3，激光原位淀积，铁电薄膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405.986 [];

学科分类号：

摘要：

利用脉冲准分子激光（工作气体ＸｅＣｌ，波长３０８ｎｍ，脉宽２８ｎｓ）在外延ＹＢＣＯ／ＬａＡｌＯ３（１００）单晶基片上淀积了Ｐｂ（Ｚｒ０．５５Ｔｉ０．４５）Ｏ３铁电薄膜，ＹＢＣＯ薄膜既为生长高取向ＰＺＴ薄膜提供了晶体匹配条件，同时也为ＰＺＴ铁电薄膜提供了下电极。讨论了工艺参数对晶相结构和表面形貌的影响。用Ｘ射线衍射表征了该多层膜的晶相结构，扫描电镜观察其表面形貌。ＰＺＴ铁电薄膜的剩余极化为２１μＣ／ｃｍ２，矫顽场为６５ｋＶ／ｃｍ。

引用

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