Cu/SiO2催化剂的制备与表征

被引:3
作者
张文忠
丁时鑫
殷元骐
机构
[1] 中国科学院兰州化学物理研究所,中国科学院兰州化学物理研究所,中国科学院兰州化学物理研究所兰州,兰州,兰州
关键词
Cu/SiO2; 催化剂制备; 表征; 氨分散作用;
D O I
10.16084/j.cnki.issn1001-3555.1993.03.003
中图分类号
学科分类号
摘要
采用等容浸渍法制备了三种类型的Cu/SiO2,催化剂(铜担载量都为3.3Wt%).将其制备因素与XRD、SEM、XPS等表征手段所得结果相关联,得出氨具有分散硅胶表面铜组分的作用、有无氨介入催化剂制备过程可导致截然不同的表面CuO分散状态.有氨介入时所得催化剂表面孤立Cu2+(二硅氧基钳合—Cu2+与具有一定分散程度的CuO共存、氨介入方式及所用铜盐不同,二种状态的铜组分在载体表面所占的比例不同.用硝酸铜为原料,先浸铜盐后浸氨的方式所得催化剂表面绝大部分为孤立Cu2+;而浸铜盐后不浸氨的催化剂表面绝大部分为CuO.在制得的5个催化剂中,表面上明显有CuO存在的4个催化剂,CuO似乎都分布于载体外表面,即形成近似于“蛋壳形”的分布.
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