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红外光学系统内部热辐射引起的杂散辐射分析
被引:26
作者
:
论文数:
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机构:
黄强
论文数:
引用数:
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机构:
钮新华
论文数:
引用数:
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机构:
沈学民
机构
:
[1]
中国科学院上海技术物理研究所
来源
:
红外技术
|
2006年
/ 06期
关键词
:
LightTools;
光学系统;
热辐射;
杂散光抑制;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN216 [红外系统装置];
学科分类号
:
0803 ;
080401 ;
080901 ;
摘要
:
利用LightTools杂散光分析软件,建立一个空间光学系统光学机械结构模型。计算这个系统内部各机械表面辐射能量到达像面的辐射能量的大小,判断出关键表面;通过比较在四种不同的发射率情况下,像面接收到各个表面杂散辐射量的变化规律,得到有用的分析结果来对这个系统提出了初步的措施抑制,并且可以指导其他类似系统的分析和设计。
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页码:348 / 352
页数:5
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