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集成电路设计技术进展
被引：1
作者：
于宗光
机构：
[1] 华晶电子集团公司中央研究所
来源：
关键词：
亚微米,集成电路,设计,互连线延迟,功耗;
D O I：
10.13250/j.cnki.wndz.1998.05.005
中图分类号：
TN402 [设计];
学科分类号：
080903 ;
1401 ;
摘要：
主要讨论亚微米集成电路设计面临的几个问题，如器件模型、互连线的延迟与串扰、设计效率的提高、功耗、可靠性设计、建库及ＥＤＡ软件等，并介绍了这几个方面的最新研究进展。
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