流动注射化学发光抑制法测定痕量抗坏血酸

被引：15

作者：

杨维平

李宝林

章竹君

田光辉

机构：

[1] 陕西师范大学化学系!西安,陕西师范大学化学系!西安,陕西师范大学化学系!西安,陕西师范大学化学系!西安

来源：

分析化学 | 1996年 / 05期

关键词：

抗坏血酸; 流动注射; 化学发光; 光抑制;

D O I：

暂无

中图分类号：

O657.3 [光化学分析法（光谱分析法）];

学科分类号：

摘要：

研究发现在碱性介质下，抗坏血酸对 Luminol-K3Fe（CN）6体系发光反应具有强烈的抑制作用，建立了化学发光抑制快速测定痕量抗坏血酸的新方法。本法测定抗坏血酸的线性范围为4．0×10－8～1．0×10-6mol／L，D．L＝40×10－8mol／L，对1．0×10－7mol／L抗坏血酸连续11次测定的相对标准偏差为0．5％，应用于医用维生素C片剂、维生素针剂以及血样中抗坏血酸的测定，结果满意。

引用

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