单层胶剥离工艺及其应用

被引：3

作者：

李淑琴

机构：

[1] 中国科学院电子学研究所

来源：

关键词：

剥离工艺; 紫外曝光; 光刻胶; 光致抗蚀剂; 辅料; 单层;

D O I：

10.13290/j.cnki.bdtjs.1988.02.009

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

本文主要叙述了单层胶剥离工艺及其原理,并对这项技术的关键问题进行了分析.文章还报导了剥离技术在Pb合金约瑟夫逊隧道结中的应用及I-V特性测试结果.其整个工艺过程均使用国产光刻胶和普通紫外曝光设备.

引用

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