调焦调平探测光斑位置误差对测量准确度影响的研究

被引：9

作者：

廖飞红 ^{[1
]}

李小平 ^{[1
]}

陈学东 ^{[1
]}

李志丹 ^{[2
]}

机构：

[1] 华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室

[2] 上海微电子装备有限公司

来源：

光学学报 | 2010年 / 30卷 / 04期

关键词：

测量; 光斑位置误差; 调焦调平测量系统; 光刻机;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

调焦调平测量系统(FLMS),实时测量硅片曝光视场区域与投影物镜焦面的相对位姿,其测量准确度影响光刻机曝光成像质量。调焦调平测量采用大入射角将3个以上的探测光斑投影到硅片曝光视场区域实现对硅片高度和倾斜的测量。如果光斑位置存在误差,就会引起硅片测量准确度误差,进而造成硅片曝光视场区域离焦,影响曝光成像质量。根据调焦调平单点几何测量模型,建立了光斑位置误差模型。研究结果表明,调焦调平单光斑的测量高度误差与光斑水平位置误差成正比,经调整调焦调平的零平面与焦面近似平行,并精确校准光斑水平位置误差到0.05 mm,其造成的测量误差最大为10 nm。

引用

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