共 1 条
人工裁剪制备石墨纳米结构
被引：8
作者：
刘首鹏
周锋
金爱子
杨海方
马拥军
李辉
顾长志
吕力
姜博
郑泉水
王胜
彭练矛
机构：
[1] 中国科学院物理研究所
[2] 清华大学力学工程系
[3] 北京大学电子学系
来源：
关键词：
高定向热解石墨;
聚焦离子束刻蚀;
电子束曝光;
反应离子刻蚀;
D O I：
暂无
中图分类号：
TB383 [特种结构材料];
学科分类号：
070205 ;
080501 ;
1406 ;
摘要：
采用不同的方法裁剪高定向热解石墨(HOPG),制备纳米尺寸的石墨条.首先,发现用聚焦离子束(镓离子)刻蚀高定向热解石墨,可以得到边缘整齐程度在几十纳米的石墨条,另外,用电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺,可以得到最小尺寸为50nm的纳米石墨图型(nanosizedgraphitepattern,纳米尺寸的多层石墨结构).采用了三种不同的方案制备反应等离子刻蚀过程中需要的掩膜,分别是PECVD生长的SiO2掩膜,磁控溅射的方法生长的SiO2掩膜和PMMA光刻胶掩膜,并将三种方案的刻蚀结果做了对比.
引用
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页码：4251 / 4255
页数：5
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