金属基低压等离子喷涂界面的结合性能及微结构研究

被引:4
作者
李东飞
邵贝羚
刘安生
安生
朱其芳
机构
[1] 北京有色金属研究总院!北京
关键词
微结构; 结合强度; 低压等离子喷涂; 非晶相;
D O I
10.13373/j.cnki.cjrm.2001.04.001
中图分类号
TG174.442 [喷镀法];
学科分类号
080503 ;
摘要
采用奴氏印痕法、X射线衍射技术 (XRD)、扫描电子显微镜 (SEM)、透射电子显微镜 (TEM)、X射线能量散射谱 (EDS)等方法研究了Ni/Fe ,Cu/Ni低压等离子喷涂材料的喷涂界面结合性能及微结构特征。喷涂界面的结合性能与其微结构、微成分特征密切相关。Ni/Fe试样具有结合良好的界面 ,界面层为在晶态 (Fe ,Ni)氧化物上弥散分布着纳米级 (Fe,Ni)金属间化合物细晶的结构 ,界面区有明显的元素扩散 ;Cu/Ni试样喷涂界面层为典型的非晶相 ,界面区未见明显的元素扩散。不同微观特征的喷涂界面对应的宏观界面结合性能有明显差异 ,Ni/Fe喷涂界面结合强度明显优于Cu/Ni喷涂界面。对Ni/Fe、Cu/Ni喷涂界面断裂的微观机理进行了探讨
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[1]  
McPherson R. Thin Solid films . 1981
[2]  
Tucker R L. J. Journal of Vacuum Science and Technology . 1974
[3]  
Fisher I A. International Materials Reviews . 1972
[4]  
MaYue et al. Surface Technol . 1998
[5]  
Guilemany J M et al. Materials Science and Engineering . 1997
[6]  
Kuroda S,Clyne T W. Thin Solid films . 1991
[7]  
Hamacha R,Dionnet B,Grimaud A. Surface Technol . 1996