等离子喷涂熔滴扁平过程数值模拟

被引：11

作者：

李长久

李京龙

机构：

[1] 西安交通大学

来源：

关键词：

等离子喷涂; 扁平率; 碰撞压力; 数值模拟;

D O I：

10.16080/j.issn1671-833x.1999.05.013

中图分类号：

TG174.442 [喷镀法];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

采用ＰＨＯＥＮＩＣＳ流体动力学计算软件，结合Ｍａｒｋｅｒ＿Ａｎｄ＿Ｃｅｌｌ技术，模拟研究了等离子喷涂熔滴碰撞基体后的扁平过程。结果表明，熔滴沿基体表面的最大铺展速度主要和碰撞速度有关；初始碰撞压力与熔滴的密度及碰撞速度的平方成正比；熔滴的扁平率随熔滴的密度和碰撞速度的增大而增大。

引用

页码：51 / 53+56 +56

页数：4