常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮

被引:3
作者
秦艳
严立
朱新河
机构
[1] 大连海事大学船机修造及金属工艺研究所!辽宁大连
基金
高等学校博士学科点专项科研基金;
关键词
金属热处理; 电介质阻挡放电; 常压; 等离子体渗氮;
D O I
10.16411/j.cnki.issn1006-7736.2001.03.024
中图分类号
TG156.82 [];
学科分类号
080201 ; 080503 ;
摘要
利用介质阻挡放电 ,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮 .研究表明 ,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层 ,而且省去了真空放电下必须的真空设备 ,整个工艺过程操作简便 ,是一种很有发展前景的新工艺 .此外 ,还分析了渗层深度及硬度随放电间隙不同的变化规律 .
引用
收藏
页码:92 / 95
页数:4
相关论文
共 2 条
[1]  
Plasma source ion-implantation technique for surface modification of material. Conrad J R. Journal of Applied Physics . 1987
[2]  
Plasma immersion ion implantation of steels. Collins G A. Materials Science and Engineering . 1991