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萃取色层化学光谱法测定高纯氧化钕中的镧、铈和镨
被引：2
作者：
余素清
翁永和
机构：
[1] 南开大学化学系
来源：
关键词：
洗脱液;
高纯氧;
富集倍数;
萃取色层;
化学光谱法;
色层柱;
光谱纯;
平面光栅摄谱仪;
氧化错;
稀土杂质;
萃取色层法;
玻璃毛;
硅球;
催化剂载体;
光谱测定;
稀土氧化物;
D O I：
10.13822/j.cnki.hxsj.1981.06.003
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
<正> 激光材料用的氧化钕的纯度要高于99.99％。用直接光谱法在PGS-2型平面光栅摄谱仪上,负二级光谱摄谱,对镧、铈和镨的测定下限分别仅有40、200和200ppm,显然达不到要求,因而,在光谱测定前对稀土杂质需进行化学法富集。现在的富集方法有阳离子交换法、萃取色层法。后者虽比前者分离时间短,但不能解决氧化钕中镨的分离。镨、钕是轻稀土中一对难分离的元素。北京大学化学系,用季铵盐络合交换萃取体
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