电沉积Ni-P、Ni-P-Si3N4非晶态合金及其结构、性能研究

被引：4

作者：

王德英

徐有容

张浩民

王彪

机构：

[1] 上海大学材料科学与工程学院!上海嘉定

[2] 不详

来源：

功能材料 | 1998年 / 05期

关键词：

电沉积; 非晶态合金膜; 抗腐蚀性; 耐磨损性;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG139.8 [];

学科分类号：

摘要：

研究了Ni－P、Ni－P－Si3N4非晶态合金薄膜的电沉积工艺，通过SEM－EDS，XRD，EMPA等微观分析方法，提出了获取8～14wt%Ni-P和Ni-PSi3N4．非晶合金镀层的镀液组成和电沉积参数．实验表明，Ni－P非晶态合金镀层在碱液中具有优越的耐蚀性能，在含Cl－1的中性盐溶液中有良好的耐蚀性，且不产生点蚀；Ni－P－Si3N4非晶合金镀层，经晶化处理后，耐蚀性能提高，且与基材呈冶金结合。

引用

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