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光学光刻的现状及未来
被引：4
作者：
周崇喜
胡松
机构：
[1] 中国科学院光电技术研究所
来源：
关键词：
光学光刻,现状,未来;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
1401 ;
摘要：
简要概述了光学光刻的现状、目前典型光刻机的技术水平、以及即将推出的新一代光刻机，并总结光学光刻的发展趋势。
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