氟化钙（CaF2）晶体研发进展

被引：18

作者：

董永军

周国清

杨卫桥

苏良壁

徐军

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所

[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所上海

[3] 上海

来源：

激光与光电子学进展 | 2003年 / 08期

关键词：

氟化钙晶体; 晶体生长; 紫外光刻; 综述;

D O I：

暂无

中图分类号：

O734 [晶体的光学性质]; O78 [晶体生长];

学科分类号：

0803 ; 0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

简述了氟化钙（CaF2）晶体的发展历史,总结其光学特性,介绍了氟化钙晶体的生长新工艺技术和发展。综述了氟化钙晶体在现代信息技术中的应用,特别对氟化钙晶体在紫外波段激光或光刻系统中的应用和发展状况作了重点说明,同时进一步指出了目前存在的问题,最后对氟化钙晶体的发展前景作了展望。

引用

页码：43 / 47

页数：5

共 4 条

[1]

新型光学材料.[M].黄德群等著;.科学出版社.1991,

[2] CaF2单晶体应用研究 [J].

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人工晶体学报, 2000, (S1) :221-221

[3]

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