电沉积Ni-W非晶态合金

被引:18
作者
姚素薇
郭鹤桐
周婉秋
小若正伦
机构
[1] 天津大学应用化学系!天津
[2] 日本上村工业(株)中央研究所!天津大学客座教授
关键词
电沉积; 非晶; Ni—W合金; 钝化膜;
D O I
暂无
中图分类号
TQ153 [电镀工业];
学科分类号
0817 ;
摘要
研究电沉积Ni-W合金的非晶化条件,划分出结晶与非晶结构区。由X衍射实验判定,Ni-W合金镀层足以Ni为溶剂、W为济质的置换型固溶体,呈面心立方结构。通过计算晶格畸变度、晶粒直径及其随结构的变化,解释了非晶镀层的形成原因。测定了作品镀层在酸溶液中的腐蚀速率,用X射线光电子能谱仪(XPS)对其在酸溶液中形成的钝化膜进行了测试,钝化膜的化学结构式为i(OH)2·WO3、·nH2O。
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共 2 条
[1]  
X射线光电子能谱分析.[M].刘世宏等编著;.科学出版社.1988,
[2]  
金属学.[M].陆景贤编;.机械工业出版社.1984,