162000铬线圆光栅的光电刻划

在自己研制的圆刻机上,用光电控制的光刻方法,成功地刻出了每圈总数为十六万两千线条的圆光栅,最大直径误差±0.145秒,直径全中误差±0.089秒,线条由金属铬形成,在扫描电镜下观察,质量良好。文中描述了用脉冲氙灯对涂在铬层上的正性光刻胶进行曝光的方法,讨论了氙灯电压、工作电容、灯管内径等对光强及光谱分布的影响,曝光系统的光谱透过率,氙灯冷却系统的特殊设计及光刻刀架的概况。讨论了大功率氙灯触发控制电路的改进及其效果,利用电感线圈减缓放电速度提高灯的寿命,采用了接触式曝光工艺,对接触不良引起“垫起”的难题,采取了相应措施。最后,介绍了实际刻划的结果。