基于白光干涉测量技术的微器件三维形貌重构

被引：9

作者：

李秋柱

刘毅

牛康康

刘君

丑修建

机构：

[1] 中北大学电子测试技术国家重点实验室

来源：

测试技术学报 | 2009年 / 23卷 / 03期

关键词：

微器件; 白光干涉; 垂直扫描法; 包络线; 零光程差位置;

D O I：

暂无

中图分类号：

TP391.41 [];

学科分类号：

080203 ;

摘要：

垂直扫描法可以重构微系统中微纳结构的表面形貌,更适合具有台阶结构的微纳结构,其分辨率高、解算速度快、精度较高.本文利用基于白光干涉技术的垂直扫描法,对微器件的台阶形貌在微系统测试仪下所得的干涉图进行分析,并重构台阶结构的表面形貌,微系统测试仪所取的干涉图符合垂直扫描法的要求,即光强峰值附近没有达到饱和,得出了清晰的三维形貌图,解算出的台阶高度和实际台阶高度一致,其横向分辨率为1.6μm,纵向分辨率为0.05μm.

引用

页码：201 / 204

页数：4

共 6 条

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