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对晶体光损伤阈值测量的一种新方法的研究
被引：6
作者：
盛芳
陈军
夏宗仁
洪治
机构：
[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,中电科技德清华莹电子有限公司,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州,杭州,浙江德清,杭州
来源：
关键词：
非线性光学;
光损伤;
损伤阈值;
损斑半径;
掺镁铌酸锂;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN206 [测试、调整及其设备];
学科分类号：
080301 [光电信息工程];
摘要：
提出一种测量晶体光损伤阈值的新方法 ,即确定激光横向功率密度的空间分布 ,利用晶体的激光损伤斑点半径 ,直接计算出晶体光损伤阈值 ,并给出入射激光为高斯光束时晶体损伤阈值与其损斑半径的关系。以提拉法生长的掺镁铌酸锂 (MgO∶LiNbO3 )晶体为研究对象 ,用该方法测量其损伤阈值 ,得到了定量结果且所得数据与文献已报道的规律相符。分析得出同样激光条件下 ,损斑半径越大的晶体其光损伤阈值越小的结论 ,指出该方法同样适用于其他晶体或非高斯光束条件下光损伤阈值的测量并对具体作法进行了讨论。该测量方法弥补了常用测量方法只能定性或半定量的不足 ,可用于晶体抗光损伤阈值的精确测量
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