高能离子注入聚合物薄膜耐磨机理研究

被引：10

作者：

朱明

唐国翌

李昱峰

陈锡花

机构：

[1] 清华大学化工系高分子研究所!北京

[2] 清华大学材料科学与工程系!北京

来源：

高分子学报 | 2000年 / 06期

关键词：

硬度; 耐磨性能; XPS; 离子注入; 聚酰亚胺;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

聚酰亚胺 (Kapton)薄膜在经过 1MeV、1 5MeV、2MeV的He+离子注入后 ,表面硬度和耐磨性能发生了很大的变化 ,测试结果表明随着注入He+离子能量的提高 ,薄膜的表面硬度随之增大 ,且均大于未注入的样品 ;样品最佳耐磨性能并不出现在最高注入能量下 ,而是在一中等能量下获得 .通过X 射线光电子能谱(XPS)实验得出注入He+离子后的薄膜表面层中O、N原子含量降低 ,形成以苯环为主的三维立体网状结构

引用

页码：791 / 794

页数：4

共 8 条

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