激光直接写入过程的计算机仿真研究

被引：6

作者：

周光亚

陈益新

王宗光

杨国光

机构：

[1] 上海交通大学信息存储研究中心,上海交通大学应用物理系,上海交通大学应用化学系,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室

来源：

光学学报 | 1999年 / 02期

关键词：

衍射光学，激光直接写入，计算机仿真;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN249,TP391.9 [];

学科分类号：

摘要：

基于光刻胶正胶曝光显影过程的理论模型，用梯度折射率介质光线追迹的方法进行了由于局部溶解速率不同而造成的显影过程中胶面面形随时间变化过程的计算。对任意给定的曝光量分布及显影时间，可以精确地确定显影后的面形，为激光直写研究提供了一种有效的工具。同时，通过对显影速率作阈值近似后，导出了光刻胶曝光显影后面形与表面所需曝光量分布之间的关系，为激光直接写入提供了理论指导。

引用

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