中国集成电路用化学品发展现状

被引：11

作者：

王海霞 ^{[1
]}

冯应国 ^{[2
]}

仲伟科 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国化工经济技术发展中心

[2] 山西省煤化工发展促进中心

来源：

关键词：

集成电路; 光刻胶; 特种气体; 超净高纯试剂; 化学机械抛光; 硅片;

D O I：

10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2018.11.001

中图分类号：

TN40 [一般性问题];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

从硅片、制程化学品两个大方面综合分析了国内外集成电路用材料的总体供求状况。在制程化学品方面,按超净高纯特种气体、光刻胶、湿电子化学品、CMP抛光材料四大部分,介绍了国际主要生产商、国内生产商及新建项目、市场消费情况,并对未来市场发展进行了预测。

引用

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共 5 条

[1] 电子化学品行业现状及展望 [J].

李岩 .

[2] 我国超净高纯化学试剂产业的基本状况 [J].

詹家荣 .

[3] 我国光刻胶的市场现状及发展趋势 [J].

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[4] 化学机械抛光技术研究进展 [J].

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李宇焜 ;

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屈一新 ;

邱冠周 .

[5] 我国电子化学品的现状与发展前景 [J].

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