六甲基二硅胺烷的等离子体聚合

被引:4
作者
周坤粦
曹伟民
周瑞花
机构
[1] 中国科学院成都有机化学研究所
[2] 中国科学院成都有机化学研究所 成都
[3] 成都
关键词
等离子体聚合; 六甲基二硅胺烷; 沉积规律; 组成;
D O I
10.15952/j.cnki.cjsc.1993.04.011
中图分类号
学科分类号
摘要
在室温和无添加气体条件下,完成了六甲基二硅胺烷较低功率密度的等寒子体聚合。研究了聚合膜的沉积规律和过程。给出了聚合物膜的结构和性质。得到经验式为 C1.42H2.65N0.2O0.15Si的新聚合物。
引用
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页码:356 / 363
页数:8
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