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六甲基二硅胺烷的等离子体聚合
被引:4
作者
:
周坤粦
论文数:
0
引用数:
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0
机构:
中国科学院成都有机化学研究所
周坤粦
曹伟民
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机构:
中国科学院成都有机化学研究所
曹伟民
周瑞花
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机构:
中国科学院成都有机化学研究所
周瑞花
机构
:
[1]
中国科学院成都有机化学研究所
[2]
中国科学院成都有机化学研究所 成都
[3]
成都
来源
:
合成化学
|
1993年
/ 04期
关键词
:
等离子体聚合;
六甲基二硅胺烷;
沉积规律;
组成;
D O I
:
10.15952/j.cnki.cjsc.1993.04.011
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
在室温和无添加气体条件下,完成了六甲基二硅胺烷较低功率密度的等寒子体聚合。研究了聚合膜的沉积规律和过程。给出了聚合物膜的结构和性质。得到经验式为 C1.42H2.65N0.2O0.15Si的新聚合物。
引用
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页码:356 / 363
页数:8
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