Ta-Ni和Nb-Ni的熔盐电化学表面合金化及合金性质的研究

被引：3

作者：

乔芝郁

Pieere Taxil

机构：

[1] 北京钢铁学院

[2] 法国Paul

来源：

金属学报 | 1987年 / 02期

关键词：

表面合金化; Ta-Ni; 合金层; 表面层; 熔盐; 电化学;

D O I：

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中图分类号：

学科分类号：

摘要：

在850—1050℃含有Ta或Nb离子的氟化物熔盐中,用电化学表面合金化的方法制备了Ta-Ni和Nb-Ni二元合金,分析表明合金层的成分是均匀的TaNi3和NbNi3化合物.利用恒电流间隙滴定技术（Galvanostatic Intermittent Titration Technique）证实了Ta-Ni二元系存在Ta2Ni,TaNi,TaNi2和TaNi3四种化合物,测定了其生成电位和自由能;Nb-Ni二元系仅生成、NbNi和NbNi3二种化合物.在熔盐电化学表面合金化的过程中,表面合金层的厚度与时间呈抛物线关系.测定了Ta-Ni和Nb-Ni合金中Ta和Nb的扩散系数,并建立了扩散系数随温度变化的Arrhenius方程

引用

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