干涉型Al-N-O选择性吸收表面的研究

被引：5

作者：

谢光明

李金许

高汉三

尹万里

机构：

[1] 北京市太阳能研究所!北京,北京科技大学材料科学与工程学院!北京,北京市太阳能研究所!北京,北京市太阳能研究所!北京

来源：

北京科技大学学报 | 2000年 / 01期

关键词：

有效介质理论; 干涉; 填充因子; 磁控溅射;

D O I：

10.13374/j.issn1001-053x.2000.01.041

中图分类号：

TB33 [复合材料];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

利用Ａｌ－Ｎ－Ｏ选择性吸收层之间产生的干涉效应，改善吸收表面的光学性能（吸收率α和发射率）．通过工艺实验确定了２种不同金属填充因子的双吸收层结构．与多层渐变吸收表面相比双吸收层结构吸收表面具有膜系结构简单、高温下性能稳定、发射率较低等优点．吸收表面的吸收率α为０．９３～０．９５，发射率（３５３Ｋ）为０．０４～０．０６．

引用

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