确定薄膜厚度和光学常数的一种新方法

被引：35

作者：

沈伟东

刘旭

叶辉

顾培夫

机构：

[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州,杭州,杭州,杭州

来源：

光学学报 | 2004年 / 07期

关键词：

薄膜光学; 光学常数; 色散公式; 单纯形法;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.5 [薄膜测量与分析];

学科分类号：

摘要：

借助于不同的色散公式 ,运用改进的单纯形法拟合分光光度计测得的透过率光谱曲线 ,来获得薄膜的光学常数和厚度。用科契公式分别对电子束蒸发的TiO2 和反应磁控溅射的Si3 N4,以及用德鲁特公式对电子束蒸发制备的ITO薄膜进行了测试 ,结果表明测得的光学常数和厚度 ,与已知的光学常数以及台阶仪测得的结果具有很好的一致性。这种方法不仅简便 ,而且不需要输入任何初始值 ,具有全局优化的能力 ,对厚度较薄的薄膜也可行。采用不同的色散公式可以获得各种不同薄膜的光学常数和厚度 ,这在光学薄膜、微电子和微光机电系统中具有实际的应用价值

引用

页码：885 / 889

页数：5

共 6 条

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