p-Si上电沉积Ni-W-P薄膜的结构与热稳定性

被引:3
作者
李爱昌
张国庆
刘冰
机构
[1] 廊坊师范专科学校化学系
[2] 天津大学应用化学系
关键词
p-Si,电沉积Ni-W-P薄膜,结构,热稳定性;
D O I
暂无
中图分类号
TQ153 [电镀工业];
学科分类号
0817 ;
摘要
研究了p-Si上恒电流沉积Ni-W-P合金薄膜组成与结构的关系,讨论了镀层的组成、结构随沉积时间的变化.测定了非晶合金的晶体结构随热处理温度的改变以及DTA曲线,结果表明,非晶Ni-W-P合金在晶化过程中形成两个纳米超微晶相,非晶Ni-W-P薄膜的热稳定性远高于通常使用的非晶Ni-P薄膜.
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共 2 条
[1]   单晶硅上电沉积Ni-W-P合金薄膜 [J].
李爱昌 ;
张国庆 ;
张允什 .
化工冶金, 1997, (04) :21-24
[2]  
非晶态电镀方法及应用.[M].(日)渡边彻等编著;于维平;李荻译;.北京航空航天大学出版社.1992,