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p-Si上电沉积Ni-W-P薄膜的结构与热稳定性
被引:3
作者
:
论文数:
引用数:
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机构:
李爱昌
张国庆
论文数:
0
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0
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0
机构:
廊坊师范专科学校化学系
张国庆
刘冰
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机构:
廊坊师范专科学校化学系
刘冰
机构
:
[1]
廊坊师范专科学校化学系
[2]
天津大学应用化学系
来源
:
应用化学
|
1998年
/ 03期
关键词
:
p-Si,电沉积Ni-W-P薄膜,结构,热稳定性;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TQ153 [电镀工业];
学科分类号
:
0817 ;
摘要
:
研究了p-Si上恒电流沉积Ni-W-P合金薄膜组成与结构的关系,讨论了镀层的组成、结构随沉积时间的变化.测定了非晶合金的晶体结构随热处理温度的改变以及DTA曲线,结果表明,非晶Ni-W-P合金在晶化过程中形成两个纳米超微晶相,非晶Ni-W-P薄膜的热稳定性远高于通常使用的非晶Ni-P薄膜.
引用
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页数:4
相关论文
共 2 条
[1]
单晶硅上电沉积Ni-W-P合金薄膜
[J].
论文数:
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机构:
李爱昌
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
张国庆
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
张允什
.
化工冶金,
1997,
(04)
:21
-24
[2]
非晶态电镀方法及应用.[M].(日)渡边彻等编著;于维平;李荻译;.北京航空航天大学出版社.1992,
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共 2 条
[1]
单晶硅上电沉积Ni-W-P合金薄膜
[J].
论文数:
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机构:
李爱昌
;
论文数:
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机构:
张国庆
;
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张允什
.
化工冶金,
1997,
(04)
:21
-24
[2]
非晶态电镀方法及应用.[M].(日)渡边彻等编著;于维平;李荻译;.北京航空航天大学出版社.1992,
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