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迈向新世纪的光学光刻
被引：2
作者：
童志义
机构：
[1] 信息产业部电子第四十五研究所!甘肃平凉
来源：
关键词：
光学光刻;
193nm技术;
157nm技术;
波前工程技术;
OPC;
OAI;
PSM;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
1401 ;
摘要：
根据光学光刻所面临的挑战，介绍了１９３ ｎ ｍ 和１５７ ｎ ｍ 光学光刻技术现状及发展趋势，并给出了波前工程技术在光学光刻中的应用对于拓展光学光刻分辨率极限的潜力所在。
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