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多程放大系统总体光路的稳定性研究
被引:12
作者
:
朱启华
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机构:
中物院核物理与化学研究所
朱启华
张小民
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机构:
中物院核物理与化学研究所
张小民
景峰
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中物院核物理与化学研究所
景峰
谭吉春
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机构:
中物院核物理与化学研究所
谭吉春
陈哲
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机构:
中物院核物理与化学研究所
陈哲
曹动
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机构:
中物院核物理与化学研究所
曹动
闫述卓
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机构:
中物院核物理与化学研究所
闫述卓
刘勇
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机构:
中物院核物理与化学研究所
刘勇
机构
:
[1]
中物院核物理与化学研究所
[2]
高温高密度等离子体重点实验室!四川绵阳919-219信箱,621900
[3]
高温高密度等离子体重点实验室!四川绵阳9
来源
:
强激光与粒子束
|
1999年
/ 06期
关键词
:
元件稳定性;
光线追迹;
三维矩阵;
打靶精度;
随机稳定性;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN24 [激光技术、微波激射技术];
学科分类号
:
摘要
:
根据打靶精度要求分解系统的稳定性指标,利用光线追迹并通过三维矩阵与代数运算相结合的方法,开发了分析多程放大系统总体光路稳定性的仿真软件。针对神光-Ⅲ原型装置的总体光路数学模型,完成了各单个元件稳定性对打靶弹着点影响的模拟计算。
引用
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页码:653 / 656
页数:4
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