热致晶化高反射率SbOx薄膜的结构分析和光学性质

被引：2

作者：

方铭

李青会

干福熹

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院上海光学精密机械研究所上海,上海,上海

来源：

光学学报 | 2004年 / 07期

关键词：

光存储; SbOx薄膜; 热致晶化; 光学性质; 示差扫描量热;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484 [薄膜物理学];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

利用直流磁控反应溅射法制备了SbOx 薄膜 ,利用X射线衍射分析仪和光谱仪分别研究了这种薄膜热致晶化的微观结构和光学性质的变化 ,并通过非晶态薄膜粉末的示差扫描量热实验测出不同加热速度条件下结晶峰温度 ,研究了这种薄膜的结晶动力学。发现沉积态SbOx 薄膜为非晶态 ,非晶态SbOx 薄膜在热致晶化过程中发生了两种变化 ,分别对应为较低温度下Sb晶体和较高温度下立方Sb2 O3 相的生成。退火后晶态薄膜中出现了单质Sb和Sb2 O3 ,30 0℃退火后Sb2 O3 相含量最大。晶态薄膜的反射率均高于沉积态 ,在晶态薄膜中 2 0 0℃退火的薄膜反射率最大。

引用

页码：890 / 892

页数：3

共 4 条

[1]

Amorphous-to-nanocrystalline transformation kinetics in SbOx films. Missana T,Afonso C N,Petford-Long A K et al. Philosophical Magazine . 1999

[2]

Thermal changes of optical properties observed in some suboxide thin films. Ohta T,Takenaga M,Akahira N et al. Journal of Applied Physiology . 1983

[3]

Sub-oxide thin films for an optical recording disk. Akahira N,Ohta T,Takenaga M et al. Proceedings of SPIE the International Society for Optical Engineering . 1982

[4]

The Effects of metal-doped GeSbTe films on light scattering-mode superresolution near-field structure ( Super-RENS ). Men Liqiu,Tominaga Junji,Fuji Hiroshi et al. Japanese Journal of Applied Physics . 2001

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