等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜成膜理论

被引：14

作者：

马胜利

徐可为

机构：

[1] 西安交通大学,西安交通大学

来源：

关键词：

等离子体化学气相沉积; 硬质膜; 成膜理论;

D O I：

10.14024/j.cnki.1004-244x.2000.02.009

中图分类号：

TG174.4 [金属表面防护技术];

学科分类号：

090303 [农业农村环境保护与治理（农业环境保护）];

摘要：

PCVD硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点。介绍了 PCVD硬质膜的成膜理论、特点 ,讨论了等离子体引入化学气相沉积过程中所带来的一些变化 ,给出了现阶段 PCVD成膜理论研究的现状、存在问题及发展趋势。

引用

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