SiC功率MOSFET器件研制进展

被引:4
作者
柏松
黄润华
陶永洪
刘奥
机构
[1] 宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室南京电子器件研究所
关键词
金属-氧化物半导体场效应管; 碳化硅; 可靠性;
D O I
暂无
中图分类号
TN386 [场效应器件];
学科分类号
摘要
碳化硅(SiC)功率金属-氧化物半导体场效应管(MOSFET)以其优越的性能受到广泛关注,但受限于器件设计和工艺技术水平,器件的潜力尚未得到充分发挥。介绍了SiC功率MOSFET的结构设计和加工工艺,采用一氧化氮(NO)栅氧退火工艺技术研制出击穿电压为1 800 V、比导通电阻为8mΩ·cm2的SiC MOSFET器件,测试评价了器件的直流和动态特性,关断特性显著优于Si IGBT。评估了SiC MOSFET器件栅氧结构的可靠性,器件的栅氧介质寿命及阈值电压稳定性均达到工程应用要求。
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共 2 条
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  • [2] 1700V, 20A 4H-SiC DMOSFETs Optimized for High Temperature Operation[J] . Hull Brett A.,Ryu Sei Hyung,Zhang Q. Jon,Jonas Charlotte,O’Loughlin Michael J.,Callanan Robert,Palmour John W..Materials Science Forum . 2011 (679)