磁控溅射MoS2薄膜的结构和微观摩擦磨损特性

被引：10

作者：

王吉会

张化一

路新春

温诗铸

机构：

[1] 清华大学摩擦学国家重点实验室!北京

来源：

润滑与密封 | 1999年 / 02期

关键词：

二硫化钼薄膜; 结构; 微观摩擦学; AFM/FFM;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

利用磁控溅射法制取了MoS2薄膜,通过X光电子能谱、X射线衍射和AFM/FFM方法对薄膜的表面形貌、成分、化学价态、结构和微观摩擦磨损性能进行了研究.实验结果表明:MoS2薄膜表面呈蠕虫状,微观结构为（100）面平行于基面的非晶态,表面膜由MoS2和少量的MoO3组成.在微观摩擦磨损过程中,MoS2薄膜的摩擦系数较大,且而磨性能高;微摩擦过程中没有磨合阶段,不存在摩擦机理的转变.

引用

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