用X射线能谱同时测定薄膜成分及厚度

被引:16
作者
程万荣
高巧君
吴自勤
机构
[1] 北京大学物理系
关键词
薄膜成分; 衬底; 基片; 射线能; 薄膜样品; 透射电子显微镜; 厚度测量; 荧光效应; 同时测定;
D O I
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摘要
本文提出一个直接利用薄膜和衬底的X射线能谱来同时测定薄膜的成分和厚度的新方法,利用薄膜发出的各元素的标识X射线强度比确定其成分,利用NaCl衬底的Nakα和Clkα标识X射线的强度随膜厚增大而衰减的定量关系确定膜厚,本方法不需要纯元素的块状标样,对在NaCl衬底上沉积的Cu-Si合金薄膜的成分和厚度,在各种实验条件下进行了测定,得到了较为满意的结果。
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相关论文
共 2 条
[1]   二元合金成份的无标样X光能谱定量分析 [J].
吴自勤 ;
高巧君 ;
葛森林 .
物理学报, 1980, (04) :485-493
[2]  
薄膜工艺[M]. 科学出版社 , 《薄膜工艺》编译组译, 1972