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用X射线能谱同时测定薄膜成分及厚度
被引:16
作者
:
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
程万荣
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
高巧君
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
吴自勤
机构
:
[1]
北京大学物理系
来源
:
物理学报
|
1982年
/ 01期
关键词
:
薄膜成分;
衬底;
基片;
射线能;
薄膜样品;
透射电子显微镜;
厚度测量;
荧光效应;
同时测定;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文提出一个直接利用薄膜和衬底的X射线能谱来同时测定薄膜的成分和厚度的新方法,利用薄膜发出的各元素的标识X射线强度比确定其成分,利用NaCl衬底的Nakα和Clkα标识X射线的强度随膜厚增大而衰减的定量关系确定膜厚,本方法不需要纯元素的块状标样,对在NaCl衬底上沉积的Cu-Si合金薄膜的成分和厚度,在各种实验条件下进行了测定,得到了较为满意的结果。
引用
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页数:8
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共 2 条
[1]
二元合金成份的无标样X光能谱定量分析
[J].
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吴自勤
;
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机构:
高巧君
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
葛森林
.
物理学报,
1980,
(04)
:485
-493
[2]
薄膜工艺[M]. 科学出版社 , 《薄膜工艺》编译组译, 1972
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