阿贝原则再认识

被引:32
作者
石照耀 [1 ]
张斌 [1 ]
费业泰 [2 ]
机构
[1] 北京工业大学机械工程与应用电子技术学院
[2] 合肥工业大学仪器科学与光电工程学院
关键词
阿贝原则; 一次误差; 阿贝误差; 二维阿贝原则;
D O I
10.19650/j.cnki.cjsi.2012.05.025
中图分类号
TG801 [公差与技术测量的理论];
学科分类号
摘要
为探究阿贝原则在现代超精密制造和测量中的适应性,回顾了古典阿贝原则及其扩展,剖析了要素布局产生的一次误差,研究了二维长度测量中的阿贝原则。通过分析测量系统的标准量、被测量、瞄准点、读数点、导向面5个要素的不同布局产生的误差,发现当标准量和被测量按经典阿贝原则要求处于同一条直线上,而其余要素不在这条直线上时,也会产生一次误差。提出了瞄准共线、读数共线、导向共线以及阿贝臂误差、瞄准臂误差、读数臂误差、导向臂误差和阿贝综合误差等概念。揭示了阿贝原则的隐含条件,重新表述了阿贝原则。讨论了上下堆叠式和共平面式二维结构的阿贝原则适应性,提出了一种提升工具显微镜精度的简明方案,介绍了一种减小阿贝误差的共平面二维精密工作台。对阿贝原则的再认识,可更新设计理念,用于研制超精密仪器和机械,也可用于经典量仪的精度再提升。
引用
收藏
页码:1128 / 1133
页数:6
相关论文
共 10 条
[1]   “Isara400”超精密坐标测量机的设计与标定(英文) [J].
Henny Spaan ;
Ivo Widdershoven ;
Rilpho Donker .
光学精密工程, 2011, (09) :2236-2241
[2]   基于相控外差干涉技术的纳米定位方法的研究 [J].
许素安 ;
李东升 ;
Chassagne Luc ;
Topcu Suat .
仪器仪表学报, 2011, 32 (07) :1655-1659
[3]   坐标测量技术半世纪——演变与趋势 [J].
石照耀 ;
张斌 ;
林家春 ;
张华 .
北京工业大学学报, 2011, 37 (05) :648-656
[4]   基于数字微镜器件的三维轮廓测量及其性能分析 [J].
许琦欣 ;
侯文玫 ;
盛世杰 ;
张运波 ;
沈丽艳 .
仪器仪表学报, 2011, 32 (05) :1138-1144
[5]   复合型超精密表面形貌测量仪 [J].
王淑珍 ;
谢铁邦 ;
常素萍 .
光学精密工程 , 2011, (04) :828-835
[6]   纳米定位测量机操作测量结果(英文) [J].
JGER Gerd ;
GRNWALD Rainer ;
MANSKE Eberhard ;
HAUSOTTE Tino ;
FβL Roland .
纳米技术与精密工程, 2004, (02) :81-84
[8]   Design of a high-precision 3D-coordinate measuring machine [J].
Vermeulen, M.M.P.A. ;
Rosielle, P.C.J.N. ;
Schellekens, P.H.J. .
CIRP Annals - Manufacturing Technology, 1998, 47 (01) :447-450
[9]  
一种H型二维超精密工作台结构[P]. 石照耀;张斌;林家春.中国专利:CN101746711A,2010-06-23
[10]  
现代精密仪器设计.[M].李庆祥等编著;.清华大学出版社.2004,