自韧化氮化硅陶瓷的研究与进展

被引：14

作者：

赵振波

于晓东

梁胜德

倪国年

机构：

[1] 北京理工大学机械工程学院精细陶瓷研究室!北京

来源：

无机材料学报 | 1997年 / 01期

关键词：

自韧化Si3N4; 显微组织; 性能; 柱状晶粒;

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

本文阐述了近年来自韧化Si3N4陶瓷技术的研究情况，对自韧化Si3N4的生长机理、影响柱状Si3N4生长的各种因素，以及自韧化Si3N4的断裂韧性、强度、韦伯模教、R曲线行为、疲劳行为、蠕变行为、氧化行为、抗热震性和热导做了全面的分析与说明，提出增韧的技术关健是控制柱状Si3N4的尺寸与玻璃相的合理运用.

引用

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[1] 自韧化氮化硅陶瓷研究 [J].