氧化铝粉体在硅溶胶中分散行为的研究

被引：20

作者：

朱新文

江东亮

谭寿洪

张兆泉

机构：

[1] 中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室!上海

[2] 中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和

来源：

硅酸盐学报 | 2001年 / 03期

关键词：

氧化铝; 硅溶胶; 分散; 流变学;

D O I：

10.14062/j.issn.0454-5648.2001.03.014

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业];

学科分类号：

摘要：

利用 ζ电位、沉降实验、流变学测试研究了氧化铝粉体在硅溶胶中的分散行为 .研究发现 ,硅溶胶分散的氧化铝浆料在pH =10附近沉降最低和粘度最小 ,表明氧化铝在硅溶胶中分散的最佳 pH条件为 pH =10左右 .还发现氧化铝在硅溶胶中分散受硅溶胶浓度的影响较大 ,其浆料粘度随硅溶胶浓度的增加而减小 ,在其质量分数为 10 %～ 15 %之间达到最低 ;当浓度进一步增加时 ,其粘度呈现微小的增加 .为此 ,本研究指出 ,氧化铝在硅溶胶中分散机理为静电位阻稳定 ,这是由于带负电荷的氧化硅胶粒在氧化铝颗粒表面形成一包覆层 ,增加了颗粒间的静电斥力位能和产生了一种空间斥力位能

引用

页码：263 / 266

页数：4