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V形槽的腐蚀及其应用
被引：2
作者：
孙彦卿
石广元
机构：
[1] 辽宁大学物理系
来源：
关键词：
晶面;
低指数;
面(晶体);
晶种;
腐蚀液;
窗孔;
各向异性腐蚀;
联氨;
氮化合物;
钻蚀;
单晶;
晶形;
掩模版;
腐蚀速率;
硅片;
凸角;
D O I：
10.13290/j.cnki.bdtjs.1981.04.006
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
本文简要地回顾了腐蚀V形槽的几种方法。并以联氨（N2H4）腐蚀V形槽工艺为主,结合半导体硅的结构报告了腐蚀方法,及达到最佳化的条件。并指出了此工艺的应用。
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