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光学邻近效应的计算机模拟研究
被引:3
作者
:
黄晓阳
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机构:
四川大学物理系
黄晓阳
杜惊雷
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机构:
四川大学物理系
杜惊雷
郭永康
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机构:
四川大学物理系
郭永康
论文数:
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机构:
孙国良
机构
:
[1]
四川大学物理系
[2]
中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室
来源
:
微细加工技术
|
1998年
/ 01期
关键词
:
部分相干,光学邻近效应;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN305 [半导体器件制造工艺及设备];
学科分类号
:
080508
[光电信息材料与器件]
;
摘要
:
本文以部分相干光的衍射理论为基础,分析了掩模结构参量对衍射场分布的影响,讨论了光学邻近效应产生的物理机理,确定了其有效作用范围,为研究光学邻近效应校正打下了基础。
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共 1 条
[1]
成像光学.[M].王之江;伍树东著;.科学出版社.1991,
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