光学邻近效应的计算机模拟研究

被引:3
作者
黄晓阳
杜惊雷
郭永康
孙国良
机构
[1] 四川大学物理系
[2] 中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室
关键词
部分相干,光学邻近效应;
D O I
暂无
中图分类号
TN305 [半导体器件制造工艺及设备];
学科分类号
080508 [光电信息材料与器件];
摘要
本文以部分相干光的衍射理论为基础,分析了掩模结构参量对衍射场分布的影响,讨论了光学邻近效应产生的物理机理,确定了其有效作用范围,为研究光学邻近效应校正打下了基础。
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共 1 条
[1]
成像光学.[M].王之江;伍树东著;.科学出版社.1991,