非制冷红外焦平面技术述评(上)

被引：22

作者：

吴诚

苏君红

潘顺臣

冯生荣

金伟其

高稚允

机构：

[1] 昆明物理研究所

[2] 北京理工大学

来源：

红外技术 | 1999年 / 01期

关键词：

非制冷,焦平面,热成像;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN211 [理论];

学科分类号：

0702 ; 070207 ;

摘要：

近年来，红外非制冷焦平面阵列技术已取得令人瞩目的进展，凭借其低成本、可接受的性能，正在开拓民用乃至军用市场。本文描述了目前主要的两种非制冷焦平面阵列技术的发展状况，并对二者以及它们与制冷型焦平面阵列进行比较与探讨。

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