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CMOS成像器件性能测试方法的研究
被引:11
作者
:
尚媛园
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0
机构:
首都师范大学信息工程学院
尚媛园
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机构:
张伟功
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机构:
宋宇
论文数:
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机构:
刘卉
机构
:
[1]
首都师范大学信息工程学院
来源
:
激光与光电子学进展
|
2010年
/ 47卷
/ 05期
关键词
:
CMOS成像器件;
读出噪声;
增益;
量子效率;
满阱电荷;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN386.1 [金属-氧化物-半导体(MOS)器件];
学科分类号
:
0805 ;
080501 ;
080502 ;
080903 ;
摘要
:
针对CMOS成像器件结构的特殊性,发展并提出了"像元光子转移技术"法测量增益和读出噪声。同时对CMOS器件的线性度、满阱电荷、暗流、不均匀性和量子效率等性能的测试方法进行了研究。最后基于2k×2kCMOS芯片进行了性能测试实验,实验结果也验证了该测试方法的可行性和可靠性。
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页码:68 / 73
页数:6
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