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低温等离子体对聚偏氟乙烯表面处理的研究
被引:5
作者
:
刘学恕
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机构:
中国科学院广州化学研究所
刘学恕
姚耀广
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机构:
中国科学院广州化学研究所
姚耀广
金杰
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机构:
中国科学院广州化学研究所
金杰
刘倩
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机构:
中国科学院广州化学研究所
刘倩
张光华
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机构:
中国科学院广州化学研究所
张光华
机构
:
[1]
中国科学院广州化学研究所
[2]
中国科学院广州化学研究所 广州五山
[3]
广州五山
来源
:
粘接
|
1992年
/ 02期
关键词
:
交联;
透射电镜;
扫描电镜图;
聚偏氟乙烯;
含氟高聚物;
刻蚀作用;
剪切强度;
抗剪强度;
力学强度;
等离子体处理;
表面处理;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文通过ESR、电镜、接触角测定及交联和剪切强度测定等手段研究了在不同等离子体条件下,聚偏氟乙烯(PVF)表面在处理前后的变化。结果表明处理后PVF的粘接性能明显有所改善,剪切强度较未处理时提高两倍左右。
引用
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页码:15 / 20
页数:6
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