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磁流变抛光去除模型及驻留时间算法研究
被引：15
作者：
孙希威
张飞虎
董申
康桂文
机构：
[1] 哈尔滨工业大学
来源：
关键词：
磁流变抛光;
去除模型;
驻留时间;
D O I：
暂无
中图分类号：
TG669 [其他特种加工机具及其加工];
学科分类号：
摘要：
建立了磁流变抛光球形光学元件的去除模型,分析了影响磁流变抛光的因素,提出了驻留时间算法,用其仿真加工球形工件,结果表明该算法是收敛的,并用磁流变抛光加工了R41.3mm、口径20mm的K9光学玻璃球面工件,获得了Rms8.441nm、PV57.911nm的面形精度。
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