金属/石墨界面扩散反应的AES研究

被引：3

作者：

姚文清

朱永法

郑斌

曹立礼

机构：

[1] 清华大学化学系!北京

来源：

关键词：

界面扩散; 线形分析; 石墨; 俄歇电子能谱;

D O I：

10.13922/j.cnki.cjovst.2000.01.003

中图分类号：

O485 [表面物理学];

学科分类号：

070205 ; 0805 ; 080502 ; 0809 ;

摘要：

利用扫描俄歇微探针的深度分析和线形分析 ,研究了石墨与金属Ti,Cr之间的界面状态和相互作用。研究结果表明 ,样品经真空热处理后 ,在Ti/石墨、Cr/石墨薄膜界面上发生了界面扩散和化学反应 ,生成了TiC和Cr3 C2 等金属碳化物物种 ,促使Ti,Cr薄膜与石墨形成了良好的化学结合状态

引用

页码：11 / 14

页数：4