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同轴旋转封闭场电弧离子镀的研究
被引：6
作者：
宦鸿信
王龙超
陈平
陈宗宝
机构：
[1] 上海市通用机械技术研究所
来源：
关键词：
同轴磁控溅射,平面转动弧;
D O I：
暂无
中图分类号：
TM501.2 [];
学科分类号：
摘要：
同轴旋转封闭电弧离子镀设备兼有平面电弧离子镀和同轴磁控溅射的优点，它在同轴靶上建立电弧放电，并采用旋转封闭磁场将电弧斑约束在长腰形的磁环隙内作螺旋运动，随磁路系统旋转而在阴极靶表面上产生旋转的电弧放电。靶处在镀膜室中央，结构简单，膜层均匀、操作方便。工件架安装在阴、阳极之间，其只需自转、无需公转、工件装载量多。利用本设备在手表表壳上镀制氮化钛膜层，其工艺重复性好，膜层与基体结合牢固，且靶材利用率高
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